Водородное восстановление галогенидов металлов

Сущность данного способа заключается в следующей химической реакции:

n

МеCl_n + --- H₂ ↔ Me + n HCl,

2

n

МеF_n + --- H₂ ↔ Me + n HF.

2

Эти реакции происходят при пониженном атмосферном давлении ≈ 1000 Па.

Этим методом получают покрытия из Мо, W, Al.