Плазменного нанесения урмз. 279. 050

 

В этой установке происходит вращение с одновременным вертикальным перемещением подложкодержателя.        Назначение: очистка пластин ионным пучком и нанесение 2-х сторонней металлизации на полиимид и анодированный алюминий. Тип источников - "Радикал", "Поток - 3".   Технические характеристики: Основные параметры источников:      а) "Радикал"

Средняя энергия ионов 0,8 - 1,0 кэВ;

Ток ионного пучка 0,3 А;

б) "Поток-З"

1. Потенциал на мишени 1,5 кВ;

2. Ток ионов на мишень 2 А;

Основные параметры установки:

1. Режим работы - ручной, с автоматическим блоком откачки;

2. Размер пластин Æ 150 мм;

3. Количество одновременно загружаемых пластин 18 шт.;

4. Производительность 9 шт/ч;

5. Неравномерность нанесения ± 5 %;

6. Средства откачки - диффузионный насос;

7. Рабочее давление 5×10^-2 Па;

8. Предельное остаточное давление 1,3×10^-4 Па;

9. Потребляемая мощность 30 кВА;

10. Габаритные размеры 4000 х 1000 х 2000 мм;

11. Масса 2600 кг.

 

УСТАНОВКА ИОННО-ХИМИЧЕСКОГО ТРАВЛЕНИЯ ПЛАСТИН ДИАМЕТРОМ ДО 150 ММ "КАТЕР".

 

Пластина неподвижна, источник движется возвратно - поступательно.        Назначение: реактивное ионно - лучевое травление в производстве СБИС и БИС.        Тип источника: щелевой сканирующий.   Технические характеристики: Основные параметры источника:   1. Средняя энергия ионов 0,2 - 0,5 кэВ; 2. Ток ионного пучка 0,5 А;

 

Основные параметры установки

 

1. Режим работы: автоматический, управление от ЭВМ, кассетная загрузка / выгрузка;

2. Размер пластин Æ 150 мм;

3. Количество одновременно загружаемых пластин 1шт.;

4. Производительность - 50 пл/см;

5. Неравномерность обработки ± (1 - 3) %;

6. Средства откачки: турбомолекулярный насос;

7. Рабочее давление (1 - 9)×10^-2 Па;

8. Предельное остаточное давление 2×10^-4 Па;

9. Потребляемая мощность 10 кВт;

10. Габаритные размеры 2100 х 1500 х 1800 мм;

11. Масса 300 кг.