Термин «литография» произошел от гречиских слов lithos – камень и grapho – пишу, рисую. Изобретенная в Германии А. Зонефельдом на рубеже XIX в. литография стала распространенным художественным средством. Технология полупроводникового производства заимствовала литографию из полиграфической промышленности.
Литография представляет собой сложный технологический процесс, основанный на использовании явлений, происходящих в актинорезистах при актиничном излучении (рис.9.1).
|
| Рис. 9.1. Процесс литографического переноса изображения |
Актиничность (др.-греч. aktis, родительный падеж др.-греч. aktinos – луч).
Актинорезисты или просто резисты – материалы, чувствительные к излучению определенной длины волны (к актиничному излучению), и стойкие (резист - сопротивляться) к технологическим воздействиям, применяемым в процессе литографии. Под действием излучения происходящие в резистах процессы необратимо меняют их стойкость к специальным составам – проявителям.
Резист состоит обычно из трех компонентов: смолы, легко испаряющегося растворителя и фотоактивного соединения. Растворитель позволяет наносить резист на кремниевую пластину в жидком виде. Резисты могут быть негативными и позитивными. После воздействия экспонирующего облучения растворимость негативных резистов в проявителе уменьшается, а позитивных увеличивается (рис.9.2).
|
| Рис. 9.2. Негативные и позитивные фоторезисты |
В зависимости от типа применяемого излучения различают оптическую, рентгеновскую, электронную и ионно-лучевую литографию (рис.9.3).
|
| Рис. 9.3. Классификация литографических процессов |
Оптическая литографию (фотолитография), стандартная или в глубоком ультра фиолетовой области, в соответствии со способом экспонирования может быть контактной или бесконтактной (на микрозазоре и проекционная). Электронная литография может выполняться путем последовательной передачи топологического рисунка на слой резиста сфокусированным единичным электронным лучом или путем одновременной проекции всего рисунка. То же можно сказать и об ионной литографии.






