(+) простота по сравнению с БТ, т. к необходима лишь одна диффузия (образование n областей истока и стока).
Рис.9.15Эпитаксиально - планарная технология производства полевого транзистора
Body –> подложка (русск);
Sourse –> исток (русск);
Gate –> затвор (русск);
Drain –> сток (русск).
04.2013 Флёров А.Н. курсы “ФОМ” и “ Электроника и МПУ”
Для самостоятельного изучения
ПРИЛОЖЕНИЕ 7