Рентгеновская литография

Рентгеновское излучение.

Установка для рентгеновского излучения представляет собой следующее:

Геометрические искажения возникающие из-за наличия зазора S между шаблоном и пластиной приводят к ошибкам передачи изображения с шаблоном. В результате этих ошибок стенки экспонированных областей резиста получаются невертикальными, а размеры рисунка, образующегося при травлении, имеют погрешности, которые не превышают 0.1 мкм.

Шаблоны рентгеновской литографии изготавливают из кремния, берилия, оксида алюминия.

Рентгеновское излучение возникает в результате соударение электронов большой энергии с атомами материала-мишени. При этом из атомов выбиваются прочно связанные с ними электроны и возникают «вакансии», которые заполняются другими связанными электронными. В результате этого перескока получаются рентгеновские кванты.

Средняя длина волны для рентгеновской литографии — 0.834 нм.