Реактивное распыление

Реактивные и высокочастотные распылительные системы.

Использование магнетронных распылительных систем с химически активной газовой средой позволяет получать пленки самых разнообразных химических соединений путем распыления металлической мишени в среде химически активного газа.

Реактивное магнетронное распыление позволяет получать пленки нитридов алюминия, кремния, титана, ниобия, которые используются в качестве диэлектрических слоев. Тонкие пленки нитрида титана, обладающие высокой электропроводностью и высокими барьерными свойствами, применяют в качестве барьеров для предотвращения диффузии между контактными слоями. Пленки на основе нитрида ниобия перспективны для получения криоэлектронных устройств на основе эффекта Джозефсона.

С помощью реактивного распыления цинковой мишени можно получать пленки оксида цинка ZnO, которые применяются для изготовления акустоэлектронных и акустооптических устройств, волноводов, тонкопленочных лазеров, фотоприемников и т.д. Для получения сильного пьезоэлектрического эффекта необходимо, чтобы пленки оксида цинка имели текстурированную структуры и удельное электросопротивление не менее 105 Ом*м. Обычно для осаждения таких пленок применяют газовую смесь на основе аргона и кислорода. На Рис. 5 в качестве примера приведены зависимости скорости роста пленки (слева) и логарифма удельного электросопротивления (справа) от содержания кислорода в смеси.

Рис. 5. Зависимости скорости осаждения (а) и электросопротивления (б) пленок ZnO от содержания кислорода в смеси.

Кривые Рис. 5 а расположены снизу вверх по мере увеличения мощности, подводимой к магнетронной распылительной системе.


Понравилась статья? Добавь ее в закладку (CTRL+D) и не забудь поделиться с друзьями:  



double arrow
Сейчас читают про: