Фотополимеры

Формирование изображения в слоях фотополимеров (фоторези­сторов) осуществляется благодаря реакциям фотолиза, фотодиме-ризации или фотоструктурирования. В результате воздействия све­та экспонированные участки перестают растворяться в некоторых растворителях (проявителях фоторезисторов), или наоборот, ско­рость растворения экспонированных участков становится гораздо большей, чем неэкспонированных. В первом случае фоторезисто­ры называют негативными, во втором — позитивными. Примером негативного фоторезистора может служить слой на основе поливи-нилциннамата — продукта этерификации поливинилового спирта коричной кислоты.

Фоторезисторы находят применение в качестве технологического материала в фотолитографических процессах изготовления раз­личных изделий современной электроники и микроэлектроники (пе­чатные платы, полупроводниковые приборы и схемы, фотошаблоны).

Спектральная чувствительность фотополимеров (фоторезисто­ров) ограничивается диапазоном 240-400 нм. Разрешающая спо­собность составляет порядка 500 мм".