Основное экспонирование через маску

Основное экспонирование производится через маску без вакуумирования.

Использование маски, которая является составной частью формной пластины, позволяет устранить светорассеяние при экспонировании, а свойства масочного слоя (однородность, равномерность по толщине, высокая оптическая плотность) гарантируют получение более высокого качества изображения, сформированного на ФПС.

Определение времени основного экспонирования. Время оновного экспонирования устанавливается с помощью бесступенчатой градационной шкалы тест-объекта.

С этой целью тест-объект с заранее заданными установками по разрешению записи, линиатуре растрирования, углу поворота растровой структуры записывается на масочный слой.

Затем производится основное экспонирование ФПС в течение различного времени, зависящего от чувствительности ФПС.

С увеличением tосн воспроизведение мелких элементов улучшается и длина градационной шкалы увеличивается, т.е. воспроизводятся все более мелкие элементы изображения. Нужно учитывать следующее: если tосн недостаточно, то растровые элементы, соответствующие по размерам высоким светам, не получают необходимой дозы излучения для полимеризации по всей глубине и их профиль не будет правильно сформирован.

Оптимальным считается то tосн экспонирования, при котором длина градационной шкалы перестает изменяться и на форме устойчиво воспроизводятся мелкие элементы изображения. Такое tосн обеспечивает получение наибольшего интервала градаций на печатной форме.

Для определения оптимального tосн можно использовать расчетный метод: зная величину экспозиции, т.е. количество освещения, необходимого для полной полимеризации слоя и формирования правильного профиля печатающих элементов, и освещенность, которую обеспечивают используемые УФ-лампы экспонирующей установки, получаем:

tосн = Hэ / Еэ, где

Hэ – экспозиция, в энергетических единицах, мВт х с /см2;

Еэ – освещенность, в энергетических единицах, мВт / см2.