В прямозонных слаболегированных полупроводниках значение Еg можно найти по положению максимума краевого излучении. Под краевым подразумевают излучение, возникающее в результате межзонных переходов и излучательной рекомбинации свободных экситонов. При прямых межзонных переходахвеличина Еg в нелегированных полупроводниках соответствует энергии максимума полосы излучения. При низких температурах в таких полупроводниках наряду с межзонными переходами может происходить аннигиляция свободных экситонов. Энергия максимума экситонной полосы ниже величины Еg на энергию связи свободного экситона, которая не превышает 5–7мэВ. Идентификация механизма излучательного перехода (межзонный или экситонный) производится по ширине и форме полосы краевого излучения. Ширина экситонной полосы не превышает 1 к0Т. В полупроводниках с резкими краями зон при межзонных переходах спектральная ширина полосы на половине ее высоты составляет приблизительно 1,7 к0Т. Полоса имеет асимметричную форму: для нее характерна коротковолновая затяжка, обусловленная температурным размытием носителей по состояниям в зонах. С ростом температуры асимметрия полосы межзонного излучения увеличивается. При высоких температурах (Т»300К) экситоны разрушаются, и краевое излучение обусловливается межзонными переходами.
В умеренно легированных мелкими примесями прямозонных полупроводниках n-типа при низких температурах (Т £77К) краевое излучение может формироваться как межзонными переходами, так и переходами через мелкие донорные состояния, либо только переходами мелкий донор – валентная зона. Глубина залегания мелких донорных уровней под дном зоны проводимости ЕD, например в соединениях АШВV, обычно не превосходит 5–7 мэВ. В этом случае энергия максимума краевого излучении может быть ниже значения Еg на величину ЕD. С повышением температуры происходит ионизация мелких донорных уровней, и краевое излучение обусловливается при этом только межзонными переходами.
Таким образом, наиболее достоверную информацию о величине Еg в прямозонных нелегированных и умеренно легированных полупроводниках можно получить измерением спектра межзонной люминесценции при 300 К, так как в этом случае исключаются возможные ошибки, связанные с определением энергии связи экситона или глубины залегания мелкого донорного уровня.
В вырожденных прямозонных полупроводниках при всех температурах краевое излучение связано с межзонными переходами и значение Еg в них со ответствует точке пересечения касательнойк низкоэнергетическому спаду полосы краевого излучения с нулевым фоном (рисунок 6).
Рисунок 6 – Иллюстрация метода определения ширины запрещенной зоны полупроводника по спектру излучательной рекомбинации светодиода.
Основным недостатком люминесцентных методов определения ширины запрещённой зоны является то, что точность их значительно уменьшается при наличии у краев зон «хвостов» плотности состояний, характерных для сильно легированных полупроводников. Кроме того, в спектрах излучения некоторых полупроводников полоса краевого излучения отсутствует, например, из-за интенсивных каналов примесной излучателыюй и безызлучательной рекомбинации. Естественно, что для таких кристаллов неприменимы методы, основанные на анализе формы спектра краевого излучения [3].