Тщательно промытые в проточной воде и высушенные образцы зажимаются в тиски таким образом, чтобы анодированная поверхность была свободной и располагалась сбоку от тисков. С помощью ножовки от каждого образца отпиливается шайба толщиной около 2 мм вместе с анодированной поверхностью. У полученных шайб сошлифовываются края до появления четкой границы между пленкой и металлом.
Измерение толщины пленки осуществляется на микроскопе с помощью окуляр-микрометра. До этого шайба зажимается в специальный держатель и устанавливается в вертикальном положении на столик микроскопа. Увеличение микроскопа подбирается таким образом, чтобы шкала окуляра совпадала с делениями микрометра. Микрометр связан с перекрестием, позволяющим точно устанавливать начало и конец отсчета. Для проверки шкалы окуляра и микрометра используется объект – микрометр, который представляет собой шкалу длиной 1 мм, разделенную на сто делений. После измерения толщины можно определить скорость нарастания пленки на каждом участке кривой, связать ее со скоростью изменения тока и сделать соответствующие выводы.
|
|
Задания и отчетность
- Основательно ознакомиться с теоретическими сведениями к данной работе.
- Подготовить пять-шесть образцов по методике, указанной в описании.
- Включить источник питания в сеть и после двухминутного прогрева подать напряжение на аноды выходных ламп источника питания.
- Установить электроды в держатели и поставить крышку на ванну.
- Установить требуемое расстояние между рабочими поверхностями анода и катода в электролите.
- Включить секундомер в момент подключения ячейки к источнику питания. Заметить показания приборов через одну минуту и записать в таблицу после отключения ячейки.
- Проделать п.п. 4, 5, 6 с остальными образцами и результаты записать в таблицу. Построить графики I = f(t).
- Измерить толщину “ h ” оксидных пленок всех образцов и записать в таблицу.
- По данным таблицы построить график: I =f(h) и нанести на него скорость образования оксидной пленки в соответствующем масштабе.
- После просушки образцов, с помощью высоковольтного источника найти прочность пленок.
- Определить погрешности полученных измерений.
Таблица 2.11
t, мин. | |||||
I, мА | |||||
h, мкм |
Контрольные вопросы
- Каковы разновидности методов анодирования металлов?
- В чем заключаются основные положения теории образования оксидной пленки?
- Какие свойства оксидных пленок используются для практического применения в приборостроении?
- Каковы строение и фазовый состав оксидных пленок пористого типа?
- Как определит толщину оксидной пленки?
- Как определить микротвердость оксидной пленки?
- Как определить пробивное напряжение оксидной пленки?
- Как определяется коррозионная стойкость оксидной пленки?
- Каковы причины убывания тока в процессе образования оксидной пленки при потенциостатическом анодировании металлов?
- Какова причина возрастания тока в начальный период анодирования при постоянном напряжении на электролитической ячейке?
Литература: [12] 9.1 – 9.8.
|
|
2.9. Исследование процессов в полупроводниковом
фоторезисторе
Цель работы: изучение основных физических закономерностей, определяющих свойства фотоприемников. Исследование вольт-амперных, спектральных и инерционных характеристик фоторезисторов.