Технология интегральной оптики

Наиболее важным является получение волноводных слоев и формирование требуемой конфигурации планарных элементов.

Волноводные слои получаются нанесением на подложку пленок из другого материала, либо увеличением показателя преломления приповерхностных слоев подложки радиационным, химическим, термическим или другим воздействием. Для нанесения пленок используют методы термического и катодного распыления. При создании монокристаллических слое применяются различные способы эпитаксиального выращивания. Повысить показатель приповерхностного слоя можно за счет ионообменной диффузии, электродиффузии, имплантации ионов. Применяются методы получения волноводов путем термодиффузии из напыленной на подложку металлической пленки.

Для формирования требуемой конфигурации отдельных планарных элементов и составленных из них оптических интегральных узлов применяется фотолитография. Для создания монолитных схем интегральной оптики применяют полупроводникое соединения монокристаллы диэлектриков, ниобат и танталат лития широко используются для изготовления различных типов интегрально-оптических модуляторов, дефлекторов, переключателей, акустооптических устройств обработки информации.