Термическое испарение в вакууме

Термическое испарение обладает рядом преимуществ:

1. В высоком вакууме можно наносить особо чистые пленки;

2. Относительная простота метода и автоматизация процесса позволяет
осаждать пленки с воспроизводимыми параметрами;

3. Высокие скорости роста пленки.

Термическое испарение основано на создании направленного потока пара вещества и последующей его конденсации на поверхности подложек, температура которых ниже температуры источника пара.