На скорость травления в разряде галогенсодержащих газов существенное влияние оказывают следующие факторы, зависящие от технологических параметров процесса и конструктивных особенностей оборудования:
· подводимая мощность; -давление в реакционной камере;
· состав реакционных газов;
· температура обрабатываемой поверхности;
· условия подвода травящих агентов и упругость паров летучих продуктов реакции;
· физико-химические свойства материалов;
· способ возбуждения и поддержания разряда в разрядной камере;
· площадь обрабатываемых пластин;
· геометрические размеры разрядной камеры и ее конструктивные особенности.
·
Наиболее значимыми из перечисленных факторов, определяющих скорость процесса плазмохимического травления, являются: состав плазмообразующего газа, рабочее давление, мощность разряда