Эпиламирование

Эпиламирование – образование разделительных барьерных плёнок на поверхности заготовки, обладающих очень низким запасом поверхностной энергии. Процесс ведут в специальных растворах с поверхностно активными веществами (ПАВ). Данные вещества адсорбируются на поверхности матрицы, образуя на поверхности мономолекулярный слой, который резко снижает поверхностные напряжения, запас энергии и микротвётдость.

Основной составляющей ПАВ являются хладоны (фторосодержащие растворители).

Эпиламированные поверхности хорошо удерживают смазку, увеличивают износостойкость режущих инструментов и трущихся поверхностей. Износостойкость трущихся деталй повышается до 40 раз, стойкость режущего инструмента - до 20 раз.

Технологический процесс эпиламирования состоит из следующих этапов:

1. Очищение поверхности.

2. Обезжиривание с последующей сушкой.

3. Эпиламирование6

а) погружение на 5-7 мин в раствор эпилама;

б) нанесение эпилама на поверхность (2-3слоя)

4. Сушка на воздухе 5-7 мин.

5. Нанесение консервирующей смазки.

Процесс ведётся при нормальной температуре. Хладоны при нормальных температурах невредны, но при нагреве до температуры выше 30 °С они разлагаются на токсичные вещества.

Электронно-лучевое испарение в вакууме

Сущность электронно-лучевого испарения в вакууме заключается в следующем:

1. Плавление тонкого поверхностного слоя сплава покрытия (1…2мм) с помощью электронной бомбардировки.

2. Объёмная диффузия и вынужденная ковекция компонентов сплава в расплавленном объёме.

3. Испарение элементов слава с поверхности.

4. Доставка испарившихся атомов в зону заготовки.

5. Поверхностные процессы.

6. Адсорбирование химабсорбированных атомов.

Лимитирующая стадия – доставка атомв в зону подлжки (молекулярный режим) или поверхностные процессы в зоне заготовки (кинетический режим). Процесс производится в вакууме при давлении не более 8,75*10^-3 Па.

Плотность и прочность покрытия невелика по сравению с ХТР, что предполагает применение финишной термомеханической обработки. Содержание примесей в электронно-лучевом материале довольно высокое – более 0,1%, а значение твёрдости для Cr, Al, Zr превышает те же значения, полученные при ХТР и зонной плавке.

Данный способ позволяет наносить покрытия практически любого состава при различных температурах заготовки–подложки.