Характеристики процесса имплантации

Рис. кільця Ньютона

Суть процесса ионного внедрения заключается в формировании пучков ионов с одинаковой массой и зарядом, обладающих необходимой заданной энергией, и внедрении их в подложку или мишень в определенном количестве, называемом дозой. Таким образом, основными характеристиками процесса являются энергия и доза пучка ионов.

Нужная энергия E₀ приобретается ионом под действием разности потенциалов U:

где n - кратность ионизации, n = 1, 2, 3; e - заряд электрона. (Например, ³¹P⁺ означает, что внедряется однократно ионизованный (+) ион фосфора с атомной массой 31; - однократно ионизованная молекула фторида бора.)

Преимущественное использование ионного легирования перед диффузионным позволяет обеспечить:

- строгое задание количества примеси, определяемого током ионов во время внедрения;

- воспроизводимость и однородность распределения примеси;

- возможность использования в качестве маски при легировании слоев SiO₂ и Si₃N₄;

- внедрение через тонкие слои диэлектриков и резистивных материалов;

- пониженную в сравнении с диффузией температуру.

Вместе с тем процесс ионного внедрения сопровождается рядом явлений, для устранения которых необходимо использование специальных технологических приемов. В результате взаимодействия с ионами в решетку полупроводника вносятся радиационные повреждения, которые при последующих операциях могут искажать профили распределения примеси. Дефекты способствуют также увеличению токов утечки и изменению других характеристик приборов. Устранение дефектов требует постимплантационной высокотемпературной обработки (отжига).