Экспонирование

Экспонирование можно определить как количество излучения, поглощенного пленкой.
Экспонирование является произведением интенсивности излучения и времени.

Экспонирование (E) = интенсивность (I) x время (t)

Это верно как для источников рентгеновского, так и гамма-излучения. Интенсивность рентгеновского излучения регулируется силой тока, подаваемого на трубку (мА), а интенсивность гамма-излучения регулируется сопротивлением источника (Бк).

Т.е. Экспонирование = мA x время

или = Бк x время (Ки x время)

Если рентгеновское экспонирование определено как 20 мА минут, то можно использовать любое сочетание времени и силы тока, при условии, что итоговое значение мА минуты равно 20.

Например, 2 мА на 10 минут

5 мА на 4 минуты

10 мА на 2 минуты

8 мА на 2,5 минуты и т.д.

Тот же принцип используется в отношении источников гамма-излучения (т.е. Бк минуты, Бк часы и т.д.). При условии, что все остальные факторы остаются постоянными, все вышеизложенные сочетания дадут одинаковую плотность.

Время экспонирования, необходимое для получения заданной плотности на рентгеновском снимке, зависит от многих факторов.

	Интенсивность излучения
	Расстояние
	Толщина материала
	Плотность материала (тип)
	Качество радиации
	Тип пленки
	Усиливающие экраны
	Проявка

1 Интенсивность (количество) излучения

Время экспонирования рассчитывается для конкретного образца после учета всех факторов, перечисленных на предыдущей странице. Очевидно, что источник в 20 кюри даст необходимую плотность за более короткое время, чем источник в 10 кюри. Аналогично чтобы получить заданную плотность пленки для источника 4 мА потребуется меньшее время экспонирования, чем для источника 2 мА. Следовательно, мы будем рассчитывать экспонирование в мА-минутах и кюри-минутах, что в дальнейшем позволит нам использовать любую активность источника или значения мА для получения необходимого сочетания интенсивность x время.

2 Расстояние

Закон уменьшения обратно пропорционально квадрату расстояния

Если расстояние между источником и пленкой изменится, то изменится и количество излучения, падающего на пленку. Это вызвано расхождением луча. Интенсивность излучения в любой точке обратно пропорционально квадрату расстояния от источника.

Как видно из рисунка, при расстоянии 2d от источника луч излучения распространяется, чтобы покрыть участок (b), в четыре раза превышающий расстояние d [участок (a)].

В результате интенсивность излучения на растоянии 2d будет 1/2 расстояния d.

На практике это можно применить с использованием следующей формулы:

Например, если образец был первоначально экспонирован при 2 м с использованием 16 мА-минут и расстояние от источника до пленки (РИП) изменилось до 4 метров, можно рассчитать новое экспонирование:

=16 x

= 16 x

= 64 мА-минутs