Порядок выполнения работы

 

1. Получить у лаборанта подложку из кремния и металлическую мишень. Измерить размер мишени (диаметр или длину и ширину) с помощью линейки.

2. С помощью пинцета закрепить подложку на подложкодержателе.

3. Закрепить подложкодержатель на карусели, а мишень – на мишенедержателе.

4. После достижения вакуума в камере не хуже 4·10^–5  мм рт.ст. осуществить напыление металлической пленки на подложку в течение заданного преподавателем времени. В процессе напыления контролировать ускоряющее напряжение и ток на мишени по приборам на блоке питания БП-94.

  Примечание. Процесс откачки вакуумной камеры и напыления должен проводиться инженером или лаборантом.

5. После завершения напыления напустить воздух в камеру и извлечь подложку с нанесенной металлической пленкой.

6. С помощью микроскопа интерферометра МИИ-4 измерить толщину металлической пленки и рассчитать скорость нанесения.

7. Рассчитать коэффициент распыления металла мишени, используя формулу (3.6).

 

СОДЕРЖАНИЕ ОТЧЕТА

 

1. Введение (постановка задачи и определение цели работы).

2. Основные теоретические сведения.

3. Упрощенная схема ионного источника.

4. Таблица экспериментальных данных с результатами расчетов.

6. Анализ полученных результатов.

7. Выводы.

 

КОНТРОЛЬНЫЕ ВОПРОСЫ

 

1. В чем заключается механизм ионного распыления?

2. Как определить пороговую энергию распыления?

3. Что такое  коэффициент распыления?

4. От каких параметров зависит величина коэффициента распыления?

5. Чем отличается процесс распыления аморфных и монокристалли-ческих мишеней?

6. Каковы основные особенности конденсации пленок при ионном распылении?

7. В чем заключаются особенности кинетики конденсации пленок при ионном распылении?

 

ЛИТЕРАТУРА

 

1. Распыление твердых тел ионной бомбардировкой. Физическое распыление одноэлементных твердых тел; пер с англ; / под ред. Р. Бериша. –М.: Мир, 1984. – 336 с.

2. Вендик, О. Г. Корпускулярно-фотонная технология/ О. Г. Вендик, Ю. Н. Горин, В. З. Попов. – М.: Высш. школа, 1984. – 239 с.

3. Ивановский, Г. Ф. Ионно-плазменная обработка ма­териалов/ Г. Ф. Ивановский, В. И.  Петров. –  М.: Радио и связь,  1986. –  232 с.

Лабораторная работа №4

ИССЛЕДОВАНИЕ ПЛАЗМЕННОГО РАЗРЯДА В ВАКУУМНОЙ КАМЕРЕ

Цель работы: изучение механизма возникновения плазменного разряда, исследование вольт-амперных характеристик тлеющего разряда, исследование влияния давления, расстояния между электродами и напряжения на параметры плазменного разряда.