Искривление зон у поверхности полупроводника может изменить величину проводимости по поверхности:
, (9.19)
где
, (9.20)
,
(9.21)
Функции и табулированы для конкретного полупроводника и определенных условий. В стационарном состоянии D ss = Const. Но если знать зависимость захваченного поверхностного заряда Qs от js, то можно рассчитать энергетическое положение и концентрацию поверхностных уровней.
Эту информацию можно получить из эффекта поля. (рис. 9.2). Возможен теоретический расчет D ss (js) и Qo (js) и сравнение его с экспериментом. На рис. 9.3 приведена зависимость D ss и Qo от величины и знака внешнего потенциала, приложенного к полупроводнику n-типа.
Рис. 9.2. Схема наблюдения эффекта поля:
П – полупроводник, И – изолятор, М – металл
Рис. 9.3. Зависимость D ss и Qo от величины и знака внешнего потенциала
В точке инвертируется знак проводимости в поверхностном слое. Зная D ss, можно по графику определить Qo и js. Однако, D ss складывается как из эффекта поля, так и из поверхностных зарядов.
|
|
Практически определить поверхностный заряд можно из экспериментальной зависимости D ss от полного заряда Q = CV; затем определяют D ss min в точке минимума. Строят теоретическую зависимость D s и Qo. Совмещая D ss min экспериментальное и теоретическое и сравнивая Qo (js) за счет эффекта поля и экспериментальную зависимость полного заряда Q (js), можно найти захваченный на поверхностных уровнях заряд:
Qs (js) = Q (js) – Qo (js) (9.22)