Термовакуумное напыление

Такое напыление основано на свойстве атомов (молекул) металлов и некоторых других мате­риалов при испарении в условиях высокого вакуума перемещаться прямолинейно (лучеобразно) и осаждаться на поверхности, постав­ленной на пути их движения.

Установка для напыления в вакууме (рис. 15.3) состоит из плос­кой плиты 6, на которой устанавливается стеклянный или метал­лический колпак 9. В последнем случае он снабжается смотровым стеклом. На плите предусмотрены два изолированных вакуумплотных вывода 4 для питания испарителя 3. На некотором расстоя­нии от испарителя помещается подложка 10, на которую наносится тонкая пленка. Подложка нагревается и до достижения заданного режима закрыта заслонкой 1.

Рис. 15.3. Установка для терми­ческого напыления в вакууме:

1 - заслонка; 2 - испаряемый матери­ал: 3 - испаритель; 4 - вакуумплотные выводы;

5 - герметизирующая прокладка; 6 - плита; 7 - присоедине­ние к вакуумному насосу;

8 - изоля­тор выводов; 9 - колпак; 10 - подлож­ка; 11- держатель подложки; 12 – нагреватель.

Процесс осаждение состоит из трех этапов:

1. Перевод напыляемого материала в парообразное состояние. Испаряемый материал нагревается до тех пор, пока давление паров не превысит давление остаточных газов. Температура испарения может достигать 1800°, а в вакууме 1205°.

2. Перенос пара от источника испарения к подложке. Область переноса составляет 10–20 см.

3. Конденсация пара на подложке, и образование плёнки. Она зависит от температуры подложки и плотности атомарного потока.