Технология сращивания протонированных пластин кремния с поверхностью гидрофильных подложек с целью получения структур кремний на изоляторе
В.И.Графутин, А.Г.Залужный1, Е.П.Прокопьев, В.Ф.Реутов2, А.Л.Суворов, С.П.Тимошенков3, Б.Ю.Шарков, Ю.А.Чаплыгин3
ГНЦ Институт теоретической и экспериментальной физики
117259, Москва, В-259, ул. Б.Черемушкинская, 25
1Московский государственный инженерно-физический институт (Технический университет)
115409, Москва, Каширскон шоссе,31
2Об`единенный институт ядерных исследований (ОИЯИ)
Московская область, Дубна, ул. Жолио Кюри,6
3Московский государственный институт электронной техники (Технический университет)
103498, Москва, К-498, Зеленоград
Поступила в редакцию 2001 г.
Аннотация
Предложены модифицированная технология газового скалывания и модель связывания гидрофильных протонированных пластин кремния, которая позволяет увеличить прочность связывания при низких температурах отжига. Рассмотрены различные технологические стадии и схема процесса получения структур кремний на диэлектрике (КНИ), многослойных структур и тонких монокристаллических слоев кремния, германия, полупроводников и и структур германий на изоляторе, полупроводниках и и др. во влажных условиях (включая и возможность использования химической сборки поверхности методом молекулярного наслаивания).
|
|
СОДЕРЖАНИЕ