Окисление пластин кремния и германия
Процесс окисления кремния в структурах КНИ
Синергетический подход к процессу окисления
Возможность синергетического подхода к эволюции свойств структур КНИ
Теоретическое обоснование метода протонирования стандартных пластин кремния
Физико-химические основы smfrt-cut технологии
Стадия ядрообразования
Стадия роста
Стадия слипания
Отщепление
Особенности процесса сращивания стандартных пластин кремния между собой и пластинами изоляторов (стекла) и другими полупроводниковыми пластинами во влажных условиях (включая и метод молекулярного наслаивания) с использованием методов наблюдения выделения паров воды
Постановка задачи и предполагаемые решения проблемы активирования, гидрофилизации и сращивания поверхностей стандартных протонированных пластин во влажных условиях
7. Технология Гёзеля-Тонга связывания гидрофильных пластин во влажных условиях (включая и метод молекулярного наслаивания)
|
|
Экспериментальные данные по технологии газового скалывания получения структур КНИ с использованием методов термообработки поверхности во влажных условиях
Рассмотрение технологии процессов обработки
9.1. Поры для случая SiO2// SiO2 связывания пластин
Состояние сращенных пластин
Плоскостность пластин
Утоньчение и полировка сращенных пластин
Микродефекты сращенных структур
Радиационные свойства smart-cut структур КНИ
Заключение.
Список литературы
Реферат
Подписи к рисункам
Общий список работ