Дать определение следующим понятиям: двойная направляющая база; двойная опорная база; скрытая база; явная база.
Двойная направляющая база лишает заготовку перемещения вдоль и
поворота вокруг двух координатных осей. На схеме базирования эта база
обозначается четырьмя опорными точками. В качестве двойной направляющей
базы используются длинные цилиндрические поверхности, линии и оси.
Двойная опорная база лишает заготовку перемещения вдоль двух
координатных осей. На схеме базирования обозначается двумя опорными
точками. В качестве двойной опорной базы используются короткие
цилиндрические поверхности заготовки, линии, оси вращения и точки.
По характеру проявления базы различаются, на явные и скрытые. Явными
базами являются реальные поверхности детали или заготовки. В качестве
скрытых баз используются воображаемые точки, плоскости и линии.
Явные технологические базы заготовки в приспособлении должны
контактировать с установочными элементами.
Скрытые базы в приспособлении реализуются с помощью установочно-
|
|
зажимных механизмов и установочных элементов, обладающих свойством
базирования заготовки относительно скрытых баз.
2. Показать схему базирования заготовки (в трех проекциях) при ее установке по плоскости основания и двум боковым плоскостям.
3. Метод регулировки.
Билет №3.
Дать определение следующим понятиям: комплект баз, опорная точка, схема базирования, смена баз.
Комплект баз - совокупность баз, образующих систему координат
заготовки или изделия.
Шесть геометрических связей, лишающих заготовку движения в шести
направлениях (шести степеней свободы), в теории базирования
символизируются опорными точками. В качестве символов используются
условные знаки:
Схема расположения опорных точек на базах заготовки называется