Сравнение способов литографии

Основным показателем литографических процессов является разрешающая способность, т.е. получение элементов субмикронных размеров <0.2 микрометра.

Наибольшей разрешающей способностью обладает рентгено-литография и электронно-лучевая литография.

Электронно-лучевая литография осваивает размеры 0.04-0.08 микрометра. Её недостаток — низкая производительность по сравнению с фотолитографией. Для увеличения производительности используется векторный способ, т.е. экспонирование широким (чаще квадратным) пучком электронов, однако возникают проблемы совмещения границ экспонированных участков.

Электронная литография имеет высокую стоимость и сложность.

Рентгеновская литография имеет большую производительность по сравнению с электронно-лучевой, но источники для получения мощных пучков рентгеновских лучей слишком сложны. Возникают проблемы с обеспечением мер безопасности от рентгеновского излучения. Сложность получения рентгеновских шаблонов: используются кремниевые и полимерные основания, с нанесенными на них рисунками из вольфрама, золота, тантала, которые подвержены разрушению. В связи с этим необходимы ребра жесткости.