Вдали от металлургической границы электрическое поле отсутствует или относительно мало по сравнению с полем в р-n переходе. Поэтому взаимное расположение энергетических зон и уровня Ферми за пределами р-n перехода остается таким же, как и с соответствующих полупроводниках. Так как полупроводник является единой системой, то уровень Ферми должен быть единым во всех областях. Поэтому энергетические зоны областей двигаются так, чтобы уровень Ферми в них сравнялись EFn=EFp (рис.2а).
а б в
Рис.2. Энергетическая диаграмма электронно-дырочного перехода: а – внешнее напряжение отсутствует (U=0); б – внешнее напряжение прямое (U>0); в – внешнее напряжение обратное (U<0).
Величина сдвига зон соответствует высоте потенциального барьера qφконт электронно-дырочного перехода:
,
где nn0 и pp0 – равновесные концентрации основных примесей, pn0 и np0 – равновесные концентрации неосновных примесей, ni – концентрация собственных носителей зарядов.
Для высоты потенциального барьера справедливо:
1) при одних и тех же концентрациях примесей высота потенциального барьера больше в р-n переходах, созданных в материале с большей шириной запрещенной зоны;
2) высота потенциального барьера возрастает при увеличении концентрации примесей в соответствующей областях;
3) с повышением температуры высота потенциального барьера уменьшается.