Емкости p-n перехода

Как известно, электрическая емкость какого-либо элемента электрической цепи определяется как отношение заряда этого элемента к его потенциалу. Другими словами, если изменение разности потенциалов приводит к изменению заряда, говорят, что данный элемент обладает емкостью. По определению C = dq/dU. Поскольку при изменении разности потенциалов на p-n переходе заряды в различных его частях меняются, следует, что переход обладает емкостью. Причем можно различить две емкости, имеющие различное физическое происхождение. Вначале рассмотрим емкость, связанную с зарядом ионов в обедненном слое. Эта емкость называется барьерной.

В обеднённом слое p-n перехода по обе стороны от металлургической границы существуют равные по значению и противоположные по знаку объёмные заряды, обусловленные ионами примесей. В зависимости от приложенного напряжения изменяется толщина обеднённого слоя и, следовательно, значение зарядов.

В несимметричном n+-p переходе концентрация примесей в одной области – эмиттере значительно больше, чем в другой – базе; в n+-p переходе n+ – область с высокой концентрацией доноров служит эмиттером, а р область – базой. В переходе со ступенчатым распределением примесей и с учётом того, что

(5.118)

(5.119)

Lоб – толщина обеднённого слоя;

Nа – концентрация донорной примеси;

j0 – контактная разность потенциалов между n- и р- областями, т.е. потенциальный барьер.

Из формулы видно, что барьерная ёмкость совпадает с ёмкостью плоского конденсатора с расстоянием между обкладками, равным толщине обеднённого слоя. Аналогия с плоским конденсатором позволяет наглядно пояснить свойства барьерной ёмкости. Например, с ростом модуля обратного напряжения барьерная ёмкость уменьшается из-за увеличения Lоб, т.е. расстояния между обкладками конденсатора. Повышение концентрации примесей увеличивает ёмкость, так как расстояние между обкладками уменьшается.

Зависимость ёмкости от напряжения называется вольт-фарадной характеристикой. Для p-n+ перехода со ступенчатым распределением примесей в безразмерных координатах она будет выглядеть так (кривая 1 на рис.4.65) Форма вольт-фарадной характеристики в общем случае зависит от распределения концентраций примесей в p-n переходе и выражается сложными функциями, поэтому применяют аппроксимацию

(5.120)

Типичные значения m=0.3¸0.5. Для плавного p-n перехода с линейным распределением концентраций примесей m=0.3 (кривая 2 на рис.4.65). Для перехода со специальным распределением примесей можно сделать m>1. По вольт-фарадной характеристике можно определить тип перехода.

При включении перехода в прямом направлении в дополнение к барьерной емкости добавляется еще одна емкость, которая называется диффузионной. Такое название отражает то, что изменение заряда неосновных носителей происходит в результате диффузии. Например, диффузия носителей от границ перехода увеличивает полные заряды дырок qp в n-области и электронов qn в p-области. Ее происхождение заключается в том, что в зависимости от напряжения, приложенного к p-n переходу, изменяются концентрация инжектированных носителей в нейтральных областях вблизи границ перехода и значение накопленного заряда, обусловленного этими носителями. Полная ёмкость представляется в виде суммы двух слагаемых C = Cбардф , где Сдф – диффузионная ёмкость. Для несимметричного n+-p перехода qn >> qp. В этом случае диффузионная ёмкость определяется зарядом неосновных носителей qn, накопленных в базе. Для p-n перехода с «толстой» базой (Wб>>Lp), интегрируя распределение:

(5.121)

с учётом: получаем:

(5.122)

n p0 – равновесная концентрация неосновных носителей – электронов в дырочном полупроводнике; tp – время жизни электронов в р-области; L n – диффузионная длина электронов в р-области; I0 – тепловой ток.

Для p-n переходов с тонкой базой (W Б << L n) вместо tn в эту формулу нужно подставить эффективное время жизни неосновных носителей в базе tэф, зависящее от скорости рекомбинации на границе базы, противоположной переходу. При высокой скорости рекомбинации tэф = tn, а при низкой tэф = W Б2/(2 D n), где D n – коэффициент диффузии электронов в р-области; т.е. в последнем случае tэф определяется средним временем диффузии, которое значительно меньше tn. Так как заряд зависит от напряжения нелинейно, то диффузионная ёмкость является функцией напряжения. Она постоянна только тогда, когда напряжение изменяется в пределах малого интервала (менее kT).


Понравилась статья? Добавь ее в закладку (CTRL+D) и не забудь поделиться с друзьями:  



double arrow
Сейчас читают про: