Полупроводниковые материалы

 

Полупроводники – это широкий класс веществ, характеризующихся значениями электропроводности, промежуточными между электропроводностью металлов (k = 106 – 108 Ом-1×м-1) и диэлектриков (k = 10-10 – 10-8 Ом-1×м-1). Характерной особенностью полупроводников, отличающей их от проводников первого рода (металлов), является резкое возрастание электропроводности их с ростом температуры. Как правило, удельная электропроводность полупроводников меняется с температурой по экспоненциальному закону. Для полупроводников, не содержащих примесей:

 

,

 

где DE – ширина запрещённой зоны, эв (1эв = 1,6×10-19Дж).

Электропроводность полупроводников сильно зависит от содержания примесей и наличия дефектов кристаллической решётки, а также от различного рода внешних воздействий (например, различных излучений). Возможность управлять электропроводностью с помощью изменения температуры, легирования и т.д. – это основа применения полупроводников. Свойства некоторых полупроводников приведены в таблице 3.4. В таблице 3.4 u- и u+ - это абсолютные подвижности электронов и дырок соответственно. Полупроводники подразделяют на несколько групп по их строению.

  Элементы IV группы – Si и Ge – это классические полупроводники. Они наиболее полно изучены и широко применяются в электронике.

Алмазоподобные полупроводники. Это соединения элементов III группы (B, Al, Ga, In) с элементами V группы (P, As, Sb): GaAs, InSb, InP, GaP и др.

 

Таблица 3.4 - Свойства некоторых полупроводников

Полупроводник

п л., °С

, эв

u -, см2/(В×с)

u+, см2/(В×с)

1

2

3

4

5

В

2300

1,1

10

10

C (алмаз)

4027

6

1800

1600

Si

1410

1,12

1500

600

Ge

937

0,75

3900

1900

Sn (серое)

0,08

3000

Te

449

0,36

1700

1200

I

113,5

1,3

25

SiC

3100

400

50

AlSb

1050

200

420

BP

1300

200

420

GaN

1700

GaSb

706

4000

1400

GaAs

1239

8500

400

GaP

1467

110

75

InSb

527

78000

750

InAs

943

33000

460

InP

1060

4600

150

CdS

1750

300

50

1

2

3

4

5

CdSe

1258

800

CdTe

1045

1,45

450

100

ZnO

1975

3,2

200

ZnS

1650

165

ZnTe

1240

0,6

100

PbS

1114

1,2

650

800

PbSe

1065

0,5

1400

1400

Ag2Te

955

0,17

4000

100

AgBr

430

1,35

35

B2Te3

585

0,25

600

Элементы V и VI групп и их аналоги: Te, Se, As, Sb, Bi, PbSe, PbS, PbTe, GeTe, SnTe и др.

Соединения элементов IV и VI группы с переходными или редкоземельными металлами и элементами II группы, например с Ti, V, Mn, Fe, Ni, Sm, Eu, Gd, Mg, Hg, Zn, Cd и др., а также другие типы неорганических веществ.

Органические полупроводники. Это некоторые кристаллы и полимеры на основе тетрацианхинодиметана, комплексы на основе перилена, виолантрена и др.

Общим свойством полупроводников является наличие двух типов разноимённо заряженных носителей тока – электронов и дырок. В идеальных кристаллах эти носители всегда появляются парами. Но это не означает, что их вклад в электропроводность одинаков, так как скорость их перемещения различна.

О скорости перемещения электронов и дырок можно судить по их абсолютной подвижности u±, выражаемой в м2/(В×с) или см2/(В×с):

 

,

 

где V± – это скорость движения частиц, м/с; Е – напряжённость электрического поля, В/м.

Таким образом, абсолютная подвижность частицы – это скорость её перемещения, приобретаемая в электрическом поле напряжённостью 1В/м. В реальных кристаллах вследствие наличия примесей и дефектов кристаллической решётки, равенство концентраций электронов и дырок нарушается, поэтому электропроводность осуществляется в этом случае преимущественно только одним типом носителей. Примеси в полупроводниках бывают двух типов – донорные и акцепторные. Донорные примеси – это примеси, поставляющие электроны проводимости без возникновения такого же количества дырок. Например, примесь As в кремнии – это донорная примесь, а такой полупроводник называется полупроводником n-типа. Акцепторные примеси – это примеси, захватывающие электроны и создающие тем самым избыточное количество дырок. Например, примесь In в кремнии – это акцепторная примесь, а такой полупроводник называется полупроводником p-типа.

Главные технические задачи полупроводниковой технологии – это получение полупроводниковых материалов с заданными свойствами, включая реализацию сложных полупроводниковых структур (сложных совокупностей p-n переходов). Образование p-n переходов сводится к введению в полупроводник необходимого количества нужных примесей. В настоящее время распространены три способа получения p-n переходов: сплавление, диффузия, ионное внедрение (имплантация).

 

Основные контролируемые параметры полупроводников:

- химический состав;

- тип проводимости;

- удельная электропроводность;

- время жизни носителей;

- подвижность носителей;

- уровень легирования.

Исходными материалами для создания полупроводниковых приборов являются материалы, которые должны иметь строго заданные состав и структуру. Нередко эти материалы должны обладать исключительно высокой чистотой и совершенством структуры. В этой связи предъявляются очень жёсткие требования к условиям производства по влажности, запылённости, спецодежде и чистоте рук и т.п. Так, одна пылинка в несколько микрон, попавшая на поверхность пластинки в ходе изготовления полупроводника, всегда приводит к неисправимому браку. Поэтому воздух в таких цехах не должен содержать более четырёх пылинок размером £0,5мкм в 1 литре.

 

Порошковые материалы

 

Материалы, полученные методами порошковой металлургии, называются порошковыми материалами или спечёнными материалами.

Первые спечённые материалы – это платиновые изделия и полуфабрикаты (чаши, тигли, медали) были изготовлены П.Г. Соболевским и В.В. Любарским в 1826 г. На рубеже XIX – XX веков были изготовлены тугоплавкие спечённые материалы, напримермер, вольфрам, получение которого плавлением (Тпл. =3680К) было тогда невозможно. Первые композиты из спечённых материалов, которые можно получать только порошковой металлургией были изготовлены в 1900г. Это композит медь – графит для щёток генераторов и электродвигателей). Во время I мировой войны были разработаны магнитодиэлектрики на основе ферромагнитных металлических порошков, распределённых в диэлектрической связке. В начале 30-х годов XX века начали выпускать спечённые твёрдые сплавы на основе систем вольфрам – медь, серебро – графит и др. композиции из спечённых материалов на основе Cu – Sn, Pb, Zn с добавками неметаллических компонентов (обычно SiO2) для фрикционных дисков.

В дальнейшем производство пористых спечённых материалов непрерывно прогрессировало, и на их основе стали получать: металлические фильтры для тонкой очистки жидкостей и газов; снарядные пояски из пористого железа, заменявшие медные во время II мировой войны; порошковые материалы для топливных элементов; порошковые материалы для антиобледенителей в самолётах; пламегасители во взрывоопасной атмосфере; порошковые материалы для химических реакций; порошковые материалы для транспорта сыпучих материалов в «кипящем» слое и др.

В 30-х годах началось массовое производство спечённых материалов на основе железа и меди в виде точных деталей, не требующих обработки резанием (шестерни, зубчатые колёса и др.). С 50-х годов для атомной промышленности получают спечённый бериллий, так как литой бериллий крупнозернистый и обладает пониженными механическими свойствами. В конце 60-х начали производить спечённую быстрорежущую сталь. В 70-х годах разработаны теплообменные металлические трубы с пористым слоем из меди, никеля, нержавеющей стали и жаропрочные порошковые суперсплавы на основе никеля.

Последняя по времени возникновения группа спечённых материалов – это высококачественные спечённые материалы, которые по свойствам (прочность, жаропрочность, износостойкость и др.) превосходят литые сплавы аналогичного состава и назначения (у литых сплавов крупнее зерно и есть ликвация). Получены жаростойкие спечённые материалы на основе Ni-Mo, Ni-Cr, Ni-Mo-Cr.

В общем виде технологический процесс порошковой металлургии состоит из четырёх основных этапов:

1) производство порошков;

2) смешивание порошков;

3) уплотнение (прессование, брикетирование);

4) спекание.

Основные способы производства порошковых материалов представлены в таблице 3.5.

 

Таблица 3.5 – Основные способы получения порошковых материалов

Степень нагруженности деталей

Класс точности

Группа сложности

Низкосерийное производство

Среднесерийное массовое производство

Основные технологичес кие операции Дополнительные операции Основные технологичес кие операции Дополнительные операции

Малонагруженные

4-7 1-7 А М, И, П А К, И, П
1-3 1-7 А М, И, П А, Б К, И, П

Умереннонагружен- ные

4,7 1-7 Б, Е.Ж М, ТО, И, П Б, Е, Ж И, П

1,3

1-4 Б М, ТО, И, П Б ТО, И, П
5,7 Б ТО, Д, И, П Б ТО, Д, И, П

Средненагруженные

4-7 1-7 Г, Е, Ж М, ТО, П Г,Е,Ж ТО, П
1-3 1-7 В, Г, Ж ТО, Д, П В, Г, Ж ТО, П, Д

Тяжелонагруженные

4-7 1-7 В, Г, Н М, ТО, П В, Г, Н ТО, П
1-3 1-7 В, Г, Н ТО, Д, П В, Г, Н ТО, Д, П

Примечание: А – холодное прессование + спекание. Б – двойное прессование + спекание. В – холодное прессование + спекание + холодная штамповка + отжиг. Г – холодное прессование + спекание + горячая штамповка + отжиг. Д – шлифовка или доводка. Е – холодное прессование + пропитка легким металлом. Ж – спекание порошка в форме + пропитка легким металлом. И – пропитка кремнийорганической жидкостью и полимеризация. К – калибровка. М – механическая обработка. Н – холодное прессование + спекание + горячая штамповка с истечением металла + отжиг. П – нанесение покрытий. ТО – термическая обработка

 

Производство порошковых материалов развивается в связи с рядом их преимуществ по сравнению с металлическими материалами, получаемыми плавлением. Путём плавления трудно или даже невозможно производить материалы с некоторыми особенностями свойств и состава: композиции из металлических и неметаллических материалов и псевдосплавы из компонентов, не смешивающихся в жидком виде (Fe-Pb, W-Cu и др.); пористые металлы и материалы (самосмазывающиеся подшипники, например). Их можно изготовить только способами порошковой металлургии. Путём спекания получают сразу готовые изделия, не требующие дальнейшей обработки резанием. Спечённые материалы в ряде случаев имеют более высокий уровень свойств, чем аналогичные материалы, получаемые плавлением (например, некоторые быстрорежущие и твёрдые материалы, жаропрочные сплавы, бериллий и др.).

Производство спечённых материалов развивается более высокими темпами, чем получение плавленых металлических материалов, так с 1964 по 1972 годы выпуск спечённых материалов в США возрос в 2,5 раза, а в Японии в 4 раза.

Имеются следующие ограничения по применению спечённых материалов:

- наибольший экономический эффект возможен лишь при достаточно массовом выпуске деталей;

- высокая стоимость исходных порошков;

- необходимость получения достаточно чистых по примесям исходных порошков, особенно железа и его сплавов, так как спечённые материалы не могут быть эффективно очищены от примесей, находящихся в исходных материалах.

Последнее ограничение постепенно теряет своё значение ввиду расширения производства порошков методом распыления расплава железа.

 

Контрольные вопросы

1) Что подразумевают под прецизионными сталями и сплавами?

2) Дайте общую классификацию прецизионным сталям и сплавам?

3) Магнитно-мягкие сплавы. Общие понятия и область применения?

4) Магнитотвёрдые материалы. Общие понятия и область применения?

5) Сплавы с заданным коэффициентом термического расширения. Общие понятия и область применения?

6) Сплавы с особыми упругими свойствами. Общие понятия и область применения?

7) Сверхпроводящие материалы. Общие понятия и область применения?

8) Твёрдые материалы. Общие понятия и область применения?

9) Жаропрочные стали и сплавы. Общие понятия и область применения?

10) Полупроводниковые материалы. Общие понятия и область применения?

11) Порошковые материалы. Общие понятия и область применения?


Понравилась статья? Добавь ее в закладку (CTRL+D) и не забудь поделиться с друзьями:  



double arrow
Сейчас читают про: