Без учета влияния подложки передаточные ВАХ, рис.1 и 2, приблизительно описываются квадратичными зависимостями тока стока от напряжения на затворе
, для р-канального транзистора то же самое, только знаки напряжений
,
и тока
отрицательны.
Крутизной транзистора называется отношение приращений тока стока к вызвавшему его изменению напряжения на затворе:

Наклон зависимости крутизны от напряжения на затворе, величина 
и есть удельная крутизна,т. е. крутизна при 
Таким образом, удельная крутизна уже не зависит от напряжений на электродах и определяется только размерами транзистора B и L, толщиной диэлектрика под затвором d и подвижностью носителей в канале.
5. Влияние подложки на ВАХ транзистора.
Обычно МОП транзисторы работают без смещения подложки, т. е. исток транзистора соединяют с подложкой. Если же по каким-то причинам на исток попадает положительное напряжение
, например при последоватнельном соединении транзисторов, то p-n -переход исток-подложка будет работать как дополнительный затвор в виде обратно смещенного p-n -перехода. Так называемый линейный коэффициент влияния подложки

показывает, во сколько раз напряжение на подложке
слабее влияет на ток стока, чем напряжение на затворе
.
С учетом влияния подложки выражение для тока стока в пологой области приобретает вид:

Напряжение на подложке относительно истока уменьшает ток стока, запирает канал транзистора со стороны подложки.

Удельная емкость подложки
, где
толщина области обеднения в подложке. Чем больше концентрация NA в подложке, тем больше CB и больше величина
. При сильном легировании подложки величина
может достигать или даже превышать единицу, обычно же
= 0.3 – 0.5.






