И антиклиналью

Рис. 2.16. График, полученный при профилировании симметричной установкой над плохо проводящим пластом.

Рис. 2.15. Графики изменения напряженности электрического поля в однородной

Приемной линии

Рис..2.14. Глубинность электроразведочной установки в зависимости от размеров

Физической основой электропрофилирования является квазилинейное изменение напряженности поля E=f(∆U) в центре линии АВ в однородной изотропной среде, где ρ среды во всех направлениях одинаково (рис. 2.15-а).

изотропной среде (а) и в этой же среде с локальным высокоомным объектом

В случае наличия в этой среде локального объекта, он отразится положительной или отрицательной аномалией в зависимости от соотношения ρ (рис.2.15-б).

Для осевых электроразведочных установок справедлив принцип взаимности, Суть которого в том, что если поменять местами, питающие и измерительные электроды, то в силу того, что коэффициент электроразведочной установки не изменяется, следовательно, не изменяется и форма графиков ρ_к.

Способов и методов электропрофилирования много. Наиболее широко применяемыми являются:

1) Симметричное электропрофилирование (СЭП) с двойными (или без двойных) разносами питающих электродов. Форма графиков для таких установок приведена на рис. 2.16 и 2.17. Примечательно, что применение 2-х питающих линий разной длины позволяет характеризовать геологический разрез в пределах разных глубин (см. рис.2.15).

I – III положения установки

Рис. 2.17. Графики электропрофилирования установкой над синклиналью

2) Электропрофилирование методом срединного градиента (СГ), когда электроды А и В неподвижны и расстояние между ними в три раза превышают длину профилей по которым перемещается линия MN. Результаты наблюдений изображают в виде план-графиков _к и U. Вид установки и форма графиков приведены на рис. 2.18.

Рис. 2.18. Вид установки (а) и изображение результатов наблюдений (б) электрического профилирования методом СГ

3) Комбинированное профилирование (КП) – способ, применяемый с двумя встроенными 3-х электродными установками AMN и MNB. Линяя MN – общая, имеется питающий электрод С, отнесенный в бесконечность (рис.19-а).

По результатам исследований получается два графика _к отдельно для каждой установки, что позволяет при их совместном рассмотрении выявить определенные особенности геологического разреза, которые не удается рассмотреть по другим модификациям электропрофилирования (рис. 19-б).