2014-02-09
1016
«Технологии материалов и элементов электронной техники»
ЧАСТЬ 1. ОСНОВЫ ФИЗИКОХИМИИ МАТЕРИАЛОВ И ТЕХНОЛОГИЙ.
Лекция 1. Диаграммы состояния и классификация свойств материалов.
1. Классификация свойств материалов.
2. Диаграммы состояния материалов.
3. Законы Курнакова и диаграммы «состав-свойство».
Лекция 2. Методы исследования материалов.
1. Исследование микроструктуры материалов.
2. Исследование химического и фазового состава материалов.
3. Методы построения диаграмм состояния.
Лекция 3. Диффузия и фазовые превращения в материалах.
1. Модели и закономерности процессов диффузии.
2. Классификация фазовых превращений в материалах.
3. Кинетика фазовых превращений. Уравнение Аврами.
Лекция 4. Методы управления структурой и свойствами материалов.
1. Процессы возврата в материалах.
2. Первичная и вторичная рекристаллизация материалов.
3. Закалка и старение материалов.
ЧАСТЬ 2. ТЕХНОЛОГИИ МАТЕРИАЛОВ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ.
Лекция 5. Технологии металлических материалов.
|
|
|
1. Технологии выращивания монокристаллов.
2. Технологии получения поликристаллов металлов и сплавов.
Лекция 6. Технологии порошковых материалов.
1. Распыление расплава инертным газом.
2. Распыление «вращающегося» электрода.
3. Электронно-лучевое распыление.
4. Плазменные технологии получения нанопорошков.
Лекция 7. Технологии керамических материалов.
1. Технология получения керамических материалов.
2. Конструкционная керамика.
3. Керамика для СВЧ диапазона длин волн.
4. Технология керамических покрытий.
Лекция 8. Технологии металлических и металлокерамических изделий.
1. Обработка металлов давлением.
2. Компактирование порошковых материалов.
3. Технологии металлокерамических изделий.
Лекция 9. Технологии стеклообразных материалов.
1. Особенности структуры и свойств стеклообразных материалов.
2. Технологии получения стекла.
3. Технологии получения пленок стекла.
ЧАСТЬ 3. ТЕХНОЛОГИИ ЭЛЕМЕНТОВ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИКИ.
Лекция 10. ГАЗО-ВАКУУМНОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ ТЕХНОЛОГИЙ.
1. Основные понятия вакуумной техники.
2. Методы получения вакуума в установках.
3. Методы измерения давления и газовых потоков.
4. Материалы вакуумной техники.
Лекция 11. МЕТОДЫ КОНТРОЛЯ ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ СТРУКТУР.
1. Контроль полупроводниковых слитков.
2. Контроль полупроводниковых пластин.
3. Контроль параметров носителей заряда.
4. Контроль эпитаксиальных структур.
Лекция 12. ТЕХНОЛОГИИ МОЛЕКУЛЯРНОЙ, ГАЗОВОЙ И ЖИДКОСТНОЙ ЭПИТАКСИИ.
1. Основные методы эпитаксиального осаждения.
2. Газофазная эпитаксия.
3. Жидкостная эпитаксия.
4. Молекулярно-лучевая эпитаксия.
|
|
|
5. Дефекты эпитаксиальных структур.
Лекция 13. ТЕХНОЛОГИИ ДИЭЛЕКТРИЧЕСКИХ ПЛЕНОК.
1. Технологии термического окисления кремниевых подложек.
2. Анодное, пиролитическое и термическое осаждение пленок оксида.
3. Технологии формирования пленок нитрида кремния.
4. Технологии на основе СВЧ плазменных разрядов.
Лекция 14. ТЕХНОЛОГИИ ИОННОГО РАСПЫЛЕНИЯ И ИОННОЙ ИМПЛАНТАЦИИ.
1. Технологии ионного распыления и очистки подложек.
2. Технологии термоионного осаждения пленок.
3. Физические основы ионной имплантации
4. Технологии ионной имплантации.
Лекция 15. ТЕХНОЛОГИИ МАГНЕТРОННОГО НАПЫЛЕНИЯ ПЛЕНОК.
1. Параметры и характеристики магнетронных источников.
2. Системы распыления магнитных материалов.
3. Реактивные и высокочастотные распылительные системы.
Лекция 16. ТЕХНОЛОГИИ ФОТОЛИТОГРАФИИ.
1. Контактная фотолитография.
2. Проекционная фотолитография.
3. Радиационная литография.
4. Магнетронные системы селективного травления.
ЧАСТЬ 3. ТЕХНОЛОГИИ ЭЛЕМЕНТОВ ЭЛЕКТРОННОЙ ТЕХНИТКИ.
ЛЕКЦИЯ 10. ГАЗО-ВАКУУМНОЕ ОБЕСПЕЧЕНИЕ ТЕХНОЛОГИЙ.
