Фотошаблоны являются основными инструментами фотолитографии, с их помощью производится локальное облучение фоторезиста в соответствии с рисунком микросхемы.
Фотошаблон - это плоскопараллельная стеклянная пластина с нанесенным на ее рабочую поверхность непрозрачным пленочным рисунком одного из слоев микросхемы, многократно повторенным с определенным шагом.
Для выполнения непрозрачного пленочного рисунка применяют металлы (хром Cr -металлизированные фотошаблоны), оксиды (Fe2O3 - цветные фотошаблоны).
Точность выполнения рисунка (маски) на фотошаблоне должна отвечать самым высоким требованиям.