2018-02-14
1768
| Изделие предназначено для нанесения покрытий на оптические детали методом резистивного и электронно-лучевого испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным контролем толщины покрытия. Установка обеспечивает возможность нанесения многослойных ахроматических покрытий на деталях серийной продукции, а также металлических, однослойных просветляющих, интерференционных зеркальных, фильтрующих и других для различных областей спектра. Установка может эксплуатироваться в закрытых сухих помещениях и при климатических условиях: - температура окружающей среды от 17 ° до 27°С; |
- относительная влажность от 40 до 75 %;
- атмосферное давление от 8,4×10-4 до 10,6×104 Па
(630 до 780 мм. рт. ст.).
|
|
|
В состав установки входит:
- откачной пост (с высоковакуумными откачными средствами, вакуумной системой и пневмо
гидроаппаратурой);
- форвакуумный агрегат;
- электрооборудования (с двумя стойками управления — управление вакуумной системой и
управление технологическими источниками).
Технические характеристики
1. Давление в камере при одновременном нагреве ее до 320 °С и при охлаждении всех ловушек жидким азотом 4×10-4Па;
2. Время достижения давления 4×10-4 Па не более 40 мин.;
3. Регулируемая температура нагрева в камере от 100 до 320°С;
4. Количество резистивных испарителей 2 шт.;
5. Количество электронно-лучевых испарителей 1 шт.;
6. Вместимость деталей размерами Æ 40 мм - 70 шт., Æ 70 мм - 6 шт.;
7. Напряжение источника питания тлеющего разряда ионной очистки на холостом ходу от 2175 В ± 20 % до 4350В ± 20%;
8. Максимальный ток тлеющего разряда ионной очистки не более 0,4 А;
9. Максимально допустимый ток резистивного испарителя при напряжении на трансформаторах не более: а) 12В ‑ 300 А,
б) 24В ‑ 150 А;
10. Максимальный ток электронно-лучевого испарителя 480мА ± 20;
11. Мощность, потребляемая установкой, не более 20 кВт;
12. Масса установки не более 2600 кг;
13. Площадь, занимаемая установкой, не более 6 м2.
