|
Изделие предназначено для нанесения в вакууме покрытий на оптические детали методом электронно-лучевого и резистивного испарения диэлектриков, полупроводниковых материалов и металлов с одновременным фотометрическим контролем толщины покрытия. Вакуумная установка обеспечивает возможность нанесения металлических, однослойных, просветляющих, ахроматических, интерференционных, зеркальных, фильтрующих, токопро-водящих и других оптических покрытий для области спектра, ограниченной длинами волн в диапазоне 250 - 1100 м/м.
Откачка камеры до начала проведения процесса напыления может производиться в ручном и автоматическом режимах.
В автоматический режим, кроме получения рабочего давления, включена ионная очистка деталей и нагрев деталей до заданной температуры с вращением арматуры.
Вакуумная установка должна эксплуатироваться на вакуумных участках и в лабораториях при температуре окружающего воздуха от 17 до 28°С, относительной влажности от 40 до 75 % в атмосферном давлении 8,4×104 - 10,6×104 Па (630 - 800 мм рт. ст.).
|
|
Вакуумная установка состоит из:
— откачного поста (с высоковакуумными средствами откачки);
— агрегата форвакуумного АВР-60;
— комплекса фотометрического контроля толщины СФКТ - 751В;
— стойки управления.
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
1. Давление в камере 6×10-4 Па или 45×10-7 мм рт. ст.;
2. Время достижения давления в камере без прогрева при рабочем режиме диффузионного насоса и при охлаждении жидким азотом криопанели и ловушек с начала откачки воздуха из камеры не более 30 мин.;
3. Количество испарителей 3 шт.: электронно-лучевых (ЭЛИ) - 2 шт., резистивных - 1 шт.;
4. Максимальная мощность ЭЛИ 6 кВт;
5. Внутренний диаметр камеры 700 мм;
6. Максимальная масса подложек, устанавливаемых на арматуре не более 10 кг;
7. Максимальная температура нагрева оптических деталей 320°С;
8. Частота вращения арматуры: 0,1 - 1 с-1 или 6 - 60 об/мин;
9. Мощность, потребляемая вакуумной установкой не более 30 кВт;
10. Общая площадь, занимаемая вакуумной установкой не более 6 м2;
11. Масса установки - 1970 кг.