2018-02-14
825
|
Изделие предназначено для ионно - лучевой обработки оптических деталей с одновременным кварцевым контролем скорости съема материала.
Вакуумная установка имеет автоматический режим откачки рабочей камеры с управлением от встроенной ЭВМ, ручной режим управления ионным источником, наладочный режим, и обеспечивает снятие материала на оптических деталях с использованием в вакууме в качестве рабочей среды инертных газов, кислорода, хладонов.
В состав установки входит:
— откачной пост с системой откачки рабочей камеры;
— подколпачная арматура;
— стойка управления;
— модуль ИЛО, состоящий из ионного источника и стойки питания,
Вакуумная установка должна эксплуатироваться на вакуумных участках и в лабораториях при условиях, соответствующих требованиям к специализированному участку вакуумных тонкопленочных покрытий согласно нормативно-технической документации, и при температуре окружающего воздуха от 17 до 28°С, относительной влажности от 40 до 75 % и атмосферном давлении 8,4×104 - 10,6×104 Па (630 - 800 мм рт, ст.)
ТЕХНИЧЕСКИЕ ХАРАКТЕРИСТИКИ
1. Давление в камере 6,67×10-4 (5×10-6) Па (мм рт., ст.);
2. Время достижения давления 6,67×10-4 Па 25 мин.;
3. Диаметр ионного пучка 200 мм;
4. Плотность ионного пучка 1 ± 0,2 мА/см2;
5. Максимальный диаметр обрабатываемой детали:
— при одинарном вращении 200 мм (1 загрузка),
— при планерном вращении 80 мм (3 загрузки),
— при обработке на планшайбе 200 мм (5 загрузок).
6. Максимальная скорость съема на площади сечения ионного пучка:
на металлах (медь) 6,3 мкм/час:
на полупроводниках (кремний) 2,4 мкм/час:
на диэлектриках (стекло) 2,7 мкм/час.
7. Мощность установки не более 18 кВА;
8. Площадь, занимаемая установкой не более 5 м2;
9. Масса установки - 1100 кг.
