Ионное легирование расчет параметров и схема процессов
Ионное легирование - это процесс введения атомов в приповерхностный слой твердого тела путем бомбардировки его ионами с энергией от нескольких килоэлектронвольт до нескольких мегаэлектронвольт.
Способ получения p-n-переходов ионным легированием (или ионной имплантацией) обладает рядом существенных преимуществ по сравнению с методом диффузии: сравнительно низкая температура обработки полупроводниковых пластин, точный контроль глубины и профиля распределения примесей, гибкость и универсальность, возможность полной автоматизации процесса. Этот метод дает возможность не только существенно повысить эффективность, снизить себестоимость и процент брака, но и создать принципиально новые приборы.
При диффузии поверхностная концентрация и профиль распределения примеси определяются температурой процесса, а при ионном легировании эти два параметра можно изменять независимо друг от друга. Профиль зависит от энергии ионов, а концентрация - от дозы облучения.
|
|
При высокой энергии ионов глубина их проникновения в твердое тело R = 5E.i1/2. Для построения профиля концентраций примеси в пластине необходимо знать дозу облучения
N+ = Q/q = I+ t / q
Понятие о нано технологиях примеры реализвции в производстве
К нанотехнологии относят процессы, оперирующие с материала-
ми и устройствами, у которых характерные размеры находятся на
уровне нанометров - миллиардной доли метра (1 нм = 10-9 м). При-
ставка «нано» происходит от греческого слова «нанос» - карлик.
Поскольку размеры атомов находятся на уровне 1 нм, можно опреде-
лить нанотехнологию как совокупность методов производства из
делий с заданной атомарной структурой путем манипулирования ато
мами и молекулами. (На отрезке длиной в 1нм можно разместить
несколько молекул кислорода). Сегодня нанотехнология,- отрасль
производства, ориентированная на получение веществ и устройств с
заданной атомной структурой - уже достигла реальных результатов
в различных направлениях. Например, уже созданы материалы на
основе углерода, которые значительно прочнее стали, но имеют удель-
ный вес меньше в 6 раз; разработаны стиральные машины с наноча-
стицами серебра, обеззараживающими белье; изготовлены мобиль-
ные телефоны, микропроцессоры с элементами, размер которых око-
ло 35 нм; использование наночастиц в медицине позволяет уничто-
жать раковые клетки и т.д. В производстве микросхем нанотехнолог-
гия успешно развивается в двух направлениях: формирование конфи-
гурации тонкопленочных элементов и травление структур