Хлоридный метод эпитаксии

Хлоридный метод основан на восстановлении тетрахлорида кремния SiCl₄ водородом при взаимодействии SiCl₄ c чистым водородом:

Данная химическая реакция обратима, поэтому необходимо строго выдерживать параметры процесса (температуру, соотношение (H₂: SiCl₄ ) реагентов), иначе будет наблюдаться обратный процесс - начнет травиться кремний.