Сушка слоя фоторезиста

Для окончательного удаления растворителя из слоя фоторезиста его сушат. При этом уплотняется структура слоя и повышается адгезия фоторезиста к подложке.

Для удаления растворителя подложки нагревают до температуры ~ 100 °С. Время сушки выбирают оптимальным для конкретных типов фоторезистов.

Существует четыре метода сушки фоторезиста:

1. Конвекционный

2. Инфракрасный

3. В СВЧ-поле

4. На печах

Урок