Технология тонкопленочных гибридных интегральных микросхем

1. Метод термического вакуумного напыления. (рис 17).

В условиях вакуума, материал помещенный в испаритель разогревается и испаряется, в результате чего молекулы вещества движутся к подложке, где они конденсируются, образуя пленку.

Наличие вакуума необходимо для свободного пролета молекул испаряемого вещества.