Автоматический модуль реактивного ионно-лучевого травления

Подложка и источник в этой установке находятся в неподвижном состоянии. Назначение: селективное реактивное ионно - лучевое травление металлизации и сплавов алюминий-медь, структур хром - медь - хром и SiO2. Тип источника "Радикал М - 250". Технические характеристики: Основные параметры источника: 1. Средняя энергия ионов 0,2 - 0,5 кэВ; 2. Ток ионного пучка 0,4 А; Основные параметры установки 1. Режим работы - автоматический, управление производится от ЭВМ; 2. Размер пластин Æ 76 мм;

3. Количество одновременно загружаемых пластин1 шт;

4. Производительность при травлении пленки SiO₂ 10 шт/ч, при травлении пленки пермаллоя 3 шт/ч;

5. Неравномерность обработки ± 5%;

6. Средства откачки турбомолекулярный насос;

7. Рабочее давление 1×10^-1 Па;

8. Предельное остаточное давление 1×10 ^-3Па;

9. Потребляемая мощность 10 кВА;

10. Габаритные размеры 3770 х 1610 х 3270 мм;

11. Масса 1750 кг.

УСТАНОВКА РЕАКТИВНОЙ ИОННО-ЛУЧЕВОЙ

ПОЛИРОВКИ ПОВЕРХНОСТИ "КОНУС".

Пластина неподвижна. Возвратно-поступательное движение источника. Назначение: реактивная ионно-лучевая полировка поверхности пластин полупроводников и диэлектриков. Тип источника — щелевой сканирующий.   Технические характеристики:          Основные параметры источника: 1. Средняя энергия ионов 0,2 - 0,5 кэВ; 2. Ток ионного пучка 150 мА;        Основные параметры установки: 1. Режим работы - автоматический, шлюзовая загрузка-выгрузка, управление от ЭВМ; 2. Размер пластин Æ150 мм; 3. Количество одновременно загружаемых пластин - 2 шт.;

4. Производительность, 4 шт/ч;

5. Неравномерность обработки ± 5 %;

6. Среднеквадратичное отклонение величин микронеровностей при полировке Si - 1,0 нм;

7. Средства откачки -турбомолекулярный насос;

8. Рабочее давление 6×10^-2 - 1×10^-2 Па;

9. Предельное остаточное давление 6×10^-4 Па;

10. Потребляемая мощность 12 кВА;

11. Габаритные размеры 1800 х 1200 х 2100 мм;

12. Масса 500 кг.