2015-01-21
1129
Установка УНЭС-2П-КА, предназначенная для крупносерийной обработки эпитаксиальных структур кремния. Реактор этой установки также выполнен по вертикальной схеме и включает цилиндрическую камеру 2, закрепленную между фланцами 1 и 5. Подложкодержатель 3 в виде полого графитового цилиндра, закрепленного через кварцевую вставку 4 на валу 8. На внешней поверхности подложкодержателя выполнены наклонные гнезда для подложек 15, а внутри него размещен кварцевый стакан 14 с ВЧ-индуктором 13. Подача ПГС производится через штуцер 10 в нижнем фланце. Штуцер 11 предназначен для подачи водорода при продувке зоны между реактором и подложкодержателем. Штуцеры 6, 9, 17 подают водород в кольцевые полости между концентрическими уплотнителями 16 и 12 обоих фланцев, а также к манжете 7 уплотнения вала 8. Это обеспечивает повышение надежности герметизации реактора. Регулировка температуры по высоте подложкодержателя может проводиться за счет изменения шага витков индуктора.
